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应用于高精度电镀工艺的 超厚膜正型光刻AZ PLP-30

发布日期：2024/10/27 16:22:25

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应用于高精度电镀工艺的 超厚膜正型光刻AZ PLP-30
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产品热线许经理 :13玖23八66554  扣扣：35捌9123零
适用于bumping和CSP重布线的超厚膜，高分辨率，对电镀工艺高耐 受性正型光
高分辨率，高垂直性,在电镀工艺中不产生膨胀与裂缝,高附着性

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