深圳市芯泰科光电有限公司
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  • 专供大学研究所耐高温、耐电镀液的厚铜电镀正性光刻胶

    专供大学研究所耐高温耐电镀液的厚铜电镀正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零深圳市芯泰科光电有限公司,创立于年,是一家服务于微电子领域的产品贸易及技术服务提供商。我们已经成为国内微电子制程领域和相关大学研究所信赖的合作伙伴公司秉持以忠诚态度对待新旧客户,以客户满意为导向,提供优

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • ·专供大学研究所耐高温、耐电镀液的厚铜电镀正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司

    专供大学研究所耐高温耐电镀液的厚铜电镀正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零深圳市芯泰科光电有限公司,创立于年,是一家服务于微电子领域的产品贸易及技术服务提供商。我们已经成为国内微电子制程领域和相关大学研究所信赖的合作伙伴公司秉持以忠诚态度对待新旧客户,以客户满意为导向,提供优

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 专供大学研究所耐湿法蚀刻正胶AZ 1500(MEMS麦克风、镍铜等金属蚀刻)

    专供大学研究所耐湿法蚀刻正胶麦克风镍铜等金属蚀刻深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产品开发经验,铝开槽穿孔膜片和背板电极,在硅片上采用光刻胶牺牲层制备了一种新型传声器。通过在铝制膜片上增加一些凹槽来减小残余应力和膜片刚度的影响,从而提高传声器的灵敏度。在膜片上制作声孔,减少了空气阻尼

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 专供光电研究所耐HF氢氟酸强酸蚀刻正胶AZ6112、AZ6124、AZ6123

    专供光电研究所耐氢氟酸强酸蚀刻正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零推荐一款有效保护结构材料多晶硅多晶硅免受电化学腐蚀的新方法,这种腐蚀通常发生在器件在基溶液中释放时,特别是当器件含有贵金属时。这种腐蚀严重降低了器件的电气和机械性能以及可靠性。在该方法中,使用光刻胶覆盖贵金属,其与下

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 大学研究所专用耐干法刻蚀正性光刻胶AZ3100

    大学研究所专用耐干法刻蚀正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 大学研究所专用耐干法刻蚀搞选择比正性光刻胶AZ GXG601、AZ GXG602

    大学研究所专用耐干法刻蚀搞选择比正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零,广泛应用于硅片和玻璃基板的蚀刻工艺。可用于干法蚀刻,如制备蓝宝石图形化衬底和菲涅尔镜等微微图形。还可用于玻璃基板蚀刻制作微体控制芯片。

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 大学研究所专用耐干法刻蚀搞选择比正性光刻胶AZ GXG601、AZ GXG602

    大学研究所专用耐干法刻蚀搞选择比正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零,广泛应用于硅片和玻璃基板的蚀刻工艺。可用于干法蚀刻,如制备蓝宝石图形化衬底和菲涅尔镜等微微图形。还可用于玻璃基板蚀刻制作微体控制芯片。

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 研究所耐干刻正胶AZ5206E、AZ5214E、AZ5218E、AZ5200NJ

    研究所耐干刻正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用应用于微流控芯片传感器,纳米机械热解碳谐振器等研发制作

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 大学研究所、ULSI和VLSI生产应用正胶AZMIR-701AZ MIR-703

    大学研究所和生产应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用适用于合和生产应用,也适用于开发化学纳米传感器,可穿戴微加速度计传感器和石墨烯场效应晶体管的器件等研发

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 大学研究所超高剂量离子注入应用正胶AZMIR-900AZ MIR-950

    大学研究所超高剂量离子注入应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零厚膜,高分辨率高感光度线正型光刻胶,适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺

    发布日期:2024/10/27 16:22:25