深圳市芯泰科光电有限公司
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  • 应用于通孔图形高分辨率K的KrF正性光刻胶AZ DX3200P

    应用于通孔图形高分辨率的正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超高分辨率正型光刻胶,为通孔图形优化,工艺窗口大,适用于相移光罩,适用于密集线图形

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 超高分辨率KrF正型光刻胶,为沟槽及通孔图形优化

    超高分辨率正型光刻胶,为沟槽及通孔图形优化深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超高分辨率正型光刻胶,为沟槽及通孔图形优化应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率正型光刻胶,适用于光罩和普通光罩,适用于各种衬底

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 应用于沟槽及通孔图形的的KrF正性光刻胶AZ DX254AZ DX5200P

    应用于沟槽及通孔图形的的正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超高分辨率正型光刻胶,为沟槽及通孔图形优化应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率正型光刻胶,适用于光罩和普通光罩,适用于各种衬底

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 大学研究所专超厚膜,高对比度正性光刻胶AZ P4620

    大学研究所专超厚膜,高对比度正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及磁头制造,高对比度,高感光度,高附着性,对电镀工艺高耐受性应用于使用晶圆键合机的晶圆级芯片级封装超厚膜,高对比度,高感光度正

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 大学研究所专超厚膜,高对比度正性光刻胶AZ P4620 AZ P4903

    大学研究所专超厚膜,高对比度正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及磁头制造,高对比度,高感光度,高附着性,对电镀工艺高耐受性应用于双稳微束制备工艺,小型化衍射干涉测距传感器,光纤通信中集成聚

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 大学研究所专超厚膜,高对比度正性光刻胶AZ P4210 AZ P4330

    大学研究所专超厚膜,高对比度正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及磁头制造,高对比度,高感光度,高附着性,对电镀工艺高耐受性应用于双稳微束制备工艺,小型化衍射干涉测距传感器,光纤通信中集成聚

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 大学研究所专超厚膜,高对比度正性光刻胶AZ P4400 AZ P4903

    大学研究所专超厚膜,高对比度正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及磁头制造,高对比度,高感光度,高附着性,对电镀工艺高耐受性应用于双稳微束制备工艺,小型化衍射干涉测距传感器,光纤通信中集成聚

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 超厚膜,高分辨率,高纵宽比I线正胶,适用于微电镀工艺AZ 10XT

    超厚膜,高分辨率,高纵宽比线正胶,适用于微电镀工艺深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率线正型光刻胶,高分辨率,高纵宽比,高附着性,对电镀工艺高耐受性,超厚膜,高分辨率,高纵宽比线正型光刻胶,适用于微电镀工艺开发集成超低体积气动微流体与三维电极网络的片上生

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 专供大学研究所超厚膜,高分辨率,高纵宽比I线正胶AZ 10XT

    专供大学研究所超厚膜,高分辨率,高纵宽比线正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率线正型光刻胶,高分辨率,高纵宽比,高附着性,对电镀工艺高耐受性,超厚膜,高分辨率,高纵宽比线正型光刻胶,适用于微电镀工艺开发集成超低体积气动微流体与三维电极网络的片上生化传

    发布日期:2024/10/27 16:22:25

  • 应用于高精度电镀工艺的 超厚膜正型光刻AZ PLP-30

    应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对电镀工艺高耐受性正型光高分辨率,高垂直性,在电镀工艺中不产生膨胀与裂缝,高附着性

    发布日期:2024/10/27 16:22:25